硅片真空退火炉

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设备概述

硅片真空退火炉是专为半导体硅片设计的精密热处理设备，通过高真空无氧环境消除硅片内应力、修复晶格缺陷，并调控载流子寿命。该设备是集成电路制造、功率器件生产、光伏电池制备的关键工艺装备

产品特点

1.零金属污染：全石英热区+真空环境
2.气氛控制：可选H₂/N₂/Ar气氛，氢退火可钝化界面态
3.冷却系统：梯度冷却（0.1-10℃/min）抑制滑移位错
4.多区控温：多区独立控温，最高温度1200℃

 

炉管尺寸（Φ*L）

最高温度

加热元件

极限真空度

炉管材质

Φ60*800-Φ300*800mm可选

1200℃

电阻丝

6.7*10-4pa

高纯石英管
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