箱式气氛炉

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设备概述

箱式气氛炉是一种在可控气氛环境（如氮气N₂、氩气Ar、氢气H₂或混合气体）下进行高温热处理的封闭式设备，广泛应用于金属烧结、陶瓷加工、电池材料制备、半导体退火等需要无氧或特定气氛的工艺场景。相比普通箱式炉，它通过精确的气氛控制，可防止材料氧化、实现特定化学反应或提高产品性能

产品特点

炉膛容积

最高温度

加热元件

炉膛结构

可通气体

12-216L可选

1700℃

电阻丝/硅碳棒/硅钼棒

方形

N2、AR等
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